Дослідження взаємодії низькоенергетичних іонів гелію з поверхнею танталової фольги
Date
2021Author
Гладковський, В. В.
Гладковська, О. В.
Костін, Є. Г.
Недибалюк, А. Ф.
Полозов, Б. П.
Федорович, О. А.
Metadata
Show full item recordAbstract
Приведено результати впливу низькоенергетичних іонів гелію з енергією 250 еВ на поверхню танталової фольги при температурі 300 оС, щільності іонного струму 1,5 мА/см2 та експозиції 11 годин. Встановлено, що поверхня опромінених зразків значно змінилася в порівнянні з вихідною структурою. Спостерігається розпилення оброблюваного матеріалу, що призводить до зміни структури його поверхні. The results of researches of the low-energy helium ions influence with an energy of 250 eV with the surface of tantalum foil at the temperature of 300 oC, and an ionic current density of 1.5 mA/cm2 with an exposure of 11 hours are presented. It was found that the surface of the irradiated samples changed significantly in comparison with the original structure. There is sputtering of the processed material, which leads to a change in the structure of its surface.